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一种TFT阵列基板的制造方法
编号:S000020774 刷新日期: 有效日期至:2020-12-12 浏览:1212 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种TFT阵列基板的制造方法,包括如下步骤:通过构图工艺在基板上分别形成包括金属氧化物半导体层、透明像素电极、源电极、漏电极、刻蚀阻挡层、栅电极、栅极扫描线、栅极绝缘层、数据扫描线以及接触过孔的图形,其中,所述金属氧化物半导体层和刻蚀阻挡层通过一次构图工艺形成,所述源电极、漏电极、透明像素电极以及数据扫描线通过一次构图工艺形成。该制造方法能够简化制作工艺,提高生产效率,降低生产成本,且提高了良品率。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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