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钇掺杂氮化铝稀磁半导体准阵列微米管及其制备方法
编号:S000019053 刷新日期: 有效日期至:2020-10-03 浏览:1809 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 吉林 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明的钇掺杂氮化铝稀磁半导体准阵列微米管及其制备方法属于半导体自旋电子器件材料的技术领域。钇掺杂氮化铝稀磁半导体准阵列微米管呈六边形柱状结构,外表面光滑,内部有凹凸不平的褶皱,形成多孔结构。制备方法是以Al粉和Y粉为原料,以氮气为反应气体,在直流电弧等离子体放电装置中进行制备;将反应室抽真空,充入反应气体开始放电;放电反应3~5min后切断电源;静置再氩气钝化,在钨杆的阴极沉积区收集毛绒状块体。本发明所制备的样品产量大、纯度高、晶形完整、形貌尺寸均一,并且制备时间短、耗能少、成本低;制备过程中不需要任何基片、模板、催化剂,对环境友好、可重复性高。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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