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> 技术详情
鳍式场效应管及其形成方法
编号:S000020245
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-24
浏览:
3529
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
科技服务
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
一种鳍式场效应管及其形成方法,其中,所述鳍式场效应管,包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底表面的绝缘层;位于所述绝缘层表面的若干鳍部,所述鳍部包括:位于绝缘层表面且垂直于所述半导体衬底的两个分立平行的侧壁层、以及位于所述侧壁层顶部且由所述两个侧壁层支撑的顶部层;横跨所述鳍部的顶部层和侧壁层的栅极结构;位于所述栅极结构两侧的鳍部内的源/漏区。所述鳍式场效应管的漏电流减少,性能提高。
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机构地址:
Floor 4,B Building of Redbud Flower Business Center,Xinchangxilu Road,Jinfeng District,Yinchuan City,Ningxia,China
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认证方式:
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