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带有隔离层的CMOS图像传感器及其制作方法
编号:S000020284 刷新日期: 有效日期至:2020-12-20 浏览:1662 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种带有隔离层的CMOS图像传感器及其制作方法,一方面,位于自所述半导体衬底上表面的预设深度以下的半导体衬底中增加隔离层,且隔离层与其对应的所述像素单元相隔离,隔离层的掺杂浓度高于半导体衬底的掺杂浓度,既能有效复合高能粒子及辐射产生的多余载流子,使图像传感器的抗高能粒子及抗辐射的能力有所提高,同时,又能有效复合像素单元中预滤除光的光生载流子,进一步保证像素单元的感光器件对光进行选择性的吸收;另一方面,通过控制感光器件的耗尽层深度,使感光器件对光进行选择性的吸收,从而有效的减少滤光片所带来的串扰效应。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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