本发明SiO₂薄膜厚度的测量方法，涉及采用光学方法计量厚度，是基于光纤激光器的SiO₂薄膜厚度的测量方法，分为测量在SiO₂氧化炉中Si片上生长的SiO₂薄膜的厚度的动态测量方法和测量生长有SiO₂薄膜的Si片上的SiO₂薄膜厚度的静态测量方法两种，在测量操作的实施中采用在线实时测量操作或离线单独测量操作，所用的仪器和部件包括光纤激光器、载物架、接收屏、A/D转换器和DSP微处理器，该测量方法对SiO₂薄膜的膜的表面没有损伤，克服了现有技术测量SiO₂薄膜厚度的精度不高或所用设备的价格昂贵的缺点。