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半导体光器件及其制造方法
编号:S000018562 刷新日期: 有效日期至:2020-11-14 浏览:1413 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种半导体光器件,其具备第一导电型半导体衬底,在半导体衬底的上方依次沉积的第一导电型的第一熔覆层,活性层,第二导电型的第二熔覆层,接触层;活性层具有通过空位扩散而混晶化的窗部及比窗部混晶度小的非窗部;接触层具有第一区域及第二区域,所述第二区域与所述第一区域相比,其与氢的亲和性更强,且位于所述第一区域的下侧。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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