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一种室温下原位合成硒化银半导体光电薄膜材料的化学方法
编号:S000019285 刷新日期: 有效日期至:2020-10-11 浏览:1605 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 河南 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明提供一种室温下原位合成硒化银半导体光电薄膜材料的化学方法。本法将单质Se粉溶解在Na2S的水溶液中形成橙黄色溶液,然后将表面溅射有单质银膜的基底材料和上述溶液共置于同一容器中,在7~35℃的温度范围内经过短时间的反应即可在基底表面原位生长出Ag2Se半导体光电薄膜材料。反应物价格低廉,无须进一步纯化,绿色环保,不需要添加任何表面活性剂或其它化学添加剂;室温反应条件温和,几乎无能耗,对导电基底无影响;反应快捷,操作方便,过程可控。本发明克服了目前Ag2Se半导体薄膜材料制备过程依赖高真空、高能耗、高制作成本、反应物毒性大、成膜过程复杂等缺点,有利于大规模生产和工业应用。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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