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一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器
编号:S000019452 刷新日期: 有效日期至:2020-10-24 浏览:1824 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:技术转让
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种n型半导体有机薄膜及肖特基特性自整流阻变存储器。所述有机薄膜是由甲基丙烯酸甲酯和聚醚酰亚胺组成的共混物制成;所述肖特基特性自整流阻变存储器,包括底电极、沉积于底电极上的阻变层和沉积于阻变层上的上电极,所述底电极是导电薄膜电极,所述阻变层是n型PEI-MMA有机薄膜,所述上电极是金电极、银电极、铂电极、钯电极、铝电极、钛电极或铜电极。本发明不仅保持器件具有较好的双极性存储功能,而且增加了存储器的自整流功能,可避免存储器在三维集成时其1R结构存在的串扰问题,其自整流功能具有肖特基特性,较之pn结自整流阻变存储器,具有肖特基二极管带来的开关速度快,开关损耗小等一切优点,降低了功耗,提高了读写速度。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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