一种阵列基板的制作方法，包括下列步骤。提供基板，其具有像素区域以及与像素区域邻接的周边区域。于像素区域形成多个像素结构，且像素结构至少其中之一的制造方法包括：于基板上形成栅极、栅极绝缘层、源极与漏极。于基板上形成图案化半导体层，其包括第一半导体图案与第二半导体图案，第一半导体图案对应于栅极并覆盖部分源极与漏极，而第二半导体图案则覆盖部分漏极。于基板上形成第一保护层，其具有第一开口暴露出部分第二半导体图案。于第一保护层上形成透明导电图案，且透明导电图案经由第一开口与第二半导体图案电性连接。