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一种制备晶体硅双发射极背结背接触太阳能电池的方法
编号:S000031476 刷新日期: 有效日期至:2020-12-03 浏览:1651 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:能源与环保 - 太阳能利用
转让类型:科技服务
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明公开了一种制备晶体硅双发射极背结背接触太阳能电池的方法,包括:在硅片背面整面硼离子注入形成背面发射区;背面沉积碱腐蚀阻挡层;在背面阻挡层上开出BSF窗口,腐蚀去除BSF窗口处的碱腐蚀阻挡层;碱腐蚀去除背面BSF窗口处的硼注入层;在硅片前表面沉积一层薄的扩散过滤层;双面磷扩散同时形成BSF和FSF;去除背面的碱腐蚀阻挡层和前表面的扩散过滤层;硼离子注入激活;制备前表面减反层和背面钝化层;制备背面发射区电极和BSF电极;烧结实现电极的欧姆接触。本发明在工艺上得到了简化,性能上也得到了提升,对于双发射极背结背接触电池的产业化前景具有很大的裨益。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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