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> 技术详情
通过直接转换半导体层来转换X射线辐射的方法和设备
编号:S000018793
刷新日期:
有效日期至:
2020-12-22
浏览:
3632
次
对接邀请:
0
次
意向价格:
面议
所在区域:
中国 -
技术领域:
智能制造 - 装备制造业
转让类型:
合作研发
专利类型:
发明专利
技术成熟度:
可以量产
供应描述
本发明涉及一种用于通过直接转换半导体层(4)来转换X射线辐射(5)的方法,该半导体层具有上表面(6)和在半导体层(4)的厚度上延伸的侧面边界面(7)。X射线辐射(5)穿过上表面(6)入射到半导体层(4)内,同时红外线辐射(3)平行于上表面(6)地穿过至少一个侧面边界面(7)透射半导体层(4)。在该方法中如下地设定红外线辐射(3)的强度轮廓(10、11):使红外线辐射(3)的强度从上表面(6)开始关于半导体层(4)的厚度降低。借助上述方法和附属设备,通过直接转换半导体层实现了对X射线探测器调整的改善,这导致在X射线成像中更少的图像伪影。
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机构地址:
Floor 4,B Building of Redbud Flower Business Center,Xinchangxilu Road,Jinfeng District,Yinchuan City,Ningxia,China
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China-Arab States Technology Transfer Center
认证方式:
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