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一种非外延生长半导体的方法
编号:S000018637 刷新日期: 有效日期至:2020-09-28 浏览:1663 对接邀请:0
意向价格: 面议
所在区域:中国 - 技术领域:智能制造 - 装备制造业
转让类型:合作研发
专利类型:发明专利 技术成熟度:可以量产
供应描述
本发明涉及一种非外延生长半导体的方法,属于纳米材料的制备领域。该方法为低温液相法:在衬底上滴加银溶胶,银溶胶中溶剂挥发后得银薄膜;衬底银薄膜面朝上加入乙醇和1-硫代癸烷丙酮溶液,静置,加入硫族元素前驱体溶液,混合后30~80℃反应4~12h,用无水乙醇洗,自然晾干,得非晶薄膜;非晶薄膜面朝上,加入甲苯、油酸和油胺,静置,加入镉盐的甲醇溶液和膦配体,50~80℃反应2~6h,用无水乙醇洗,自然晾干,得非外延生长的半导体。该方法成本低,易规模化生产;不受晶格失配度、沉积临界厚度和衬底限制,可大晶格失配度下在不同衬底上原位生长一维微/纳结构或二维薄膜结构的单晶半导体,应用领域广泛。
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机构地址:No.490, S.Ning'an Str., Yinchuan,Ningxia 查看地图
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